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圆周率半导体获得一种减小蚀刻因子的双面板制造的进程专利

文章来源:雷火竞技app下载官网 阅读次数:61 次  发布时间:2025-06-24 03:48:06

  金融界2025年4月9日音讯,国家知识产权局信息数据显现,圆周率半导体(南通)有限公司获得一项名为“一种减小蚀刻因子的双面板制造的进程”的专利,授权公告号 CN 115190709 B,请求日期为 2022年8月。

  天眼查资料显现,圆周率半导体(南通)有限公司,成立于2021年,坐落南通市,是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册本钱3231.6763万人民币,实缴本钱3195.6763万人民币。经过天眼查大数据分析,圆周率半导体(南通)有限公司共对外出资了1家企业,产业线条,此外企业还具有行政许可13个。

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